陕西精盛誉钛工贸有限公司官网欢迎您!

钛锻件

全国咨询热线:

199-2920-6505

钛靶材
您当前的位置 : 首 页 > 新闻中心 > 公司新闻

磁控溅射钛靶材的发展概述

2021-02-01 05:05:03

高纯钛作为电子信息领域重要的功能薄膜材料,近年来随着我国集成电路、平面显示、太阳能等产业的快速发展需求量快速上升。磁控溅射技术(PVD)技术是制备薄膜材料的关键技术之一,高纯钛溅射靶材是磁控溅射工艺中的关键耗材,具有广阔的市场应用前景。钛靶材作为高附加值的镀膜材料,在化学纯度、组织性能等方面具有严格的要求,技术含量高、加工难度大,我国靶材制造企业在优异靶材制造领域起步相对较晚,在基础原材料纯度方面相对落后,靶材制备技术如组织控制、工艺成型等核心工艺技术方面与国外也存在一定的差距。针对下游优异应用,开发高性能钛溅射靶材,是实现电子信息制造业关键材料的自主研制和推动钛工业向优异转型升级的重要举措。

钛靶材

钛靶材的应用及性能要求

磁控溅射Ti靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、平面显示屏和家装汽车行业装饰镀膜领域,如玻璃装饰镀膜和轮毂装饰镀膜等。不同行业Ti靶材要求也有很大差别,主要包括:纯度、微观组织、焊接性能、尺寸精度几个方面,具体指标要求如下:

1)纯度 :非集成电路用:99.9%; 集成电路用:99.995%、99.99%。

2)微观组织: 非集成电路用:平均晶粒小于100μm ;集成电路用:平均晶粒小于30μm、 超细晶平均晶粒小于10μm 。

3) 焊接性能: 非集成电路用:钎焊、单体; 集成电路用:单体、钎焊、扩散焊 。

4) 尺寸精度: 非集成电路用:0.1mm; 非集成电路用:0.01mm。

上一篇:高纯钛靶材的应用2021-02-01

近期浏览:

钛锻件

微信 扫一扫

联系方式

张经理:19929206505

陈经理:15291726017

邮   箱:511095812@qq.com

地   址:陕西省宝鸡市高新开发区清庵堡村工业园


主要从事于钛锻件,钛标准件,钛靶材,钛棒 , 欢迎来电咨询!
技术支持:祥云平台