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钛靶材厂家制作方法及分类应用

2021-02-01 05:05:03

目前钛靶材的制备主要有铸造法和粉末冶金法。

     铸造法:将一定成分配比的合金原料熔炼,再将合金溶液浇注于模具中,形成铸锭,最后经机械加工制成靶材,铸造法在真空中熔炼、铸造。常用的熔炼方法有真空感应熔炼、真空电弧熔炼和真空电子轰击熔炼等,其优点是靶材杂质含量(特别是气体杂质含量)低,密度高,可大型化;缺点是对熔点和密度相差较大的两种或两种以上金属,普通熔炼法难以获得成分均匀的合金靶材。

       粉末冶金法:将一定成分配比的合金原料熔炼,浇注成铸锭后再粉碎,将粉碎形成的粉末经等静压成形,再高温烧结,最终形成靶材,其优点是靶材成分均匀;缺点是密度低,杂质含量高等,常用的粉末冶金工艺包括冷压、真空热压和热等静压等。

 一、根据不同材质靶材可分为:金属靶材,陶瓷(氧化物、氮化物等)靶材,合金靶材。

 二、根据不同应用方向可分为

      1、半导体关联靶材:

  电极、布线薄膜:铝靶材,铜靶材,金靶材,银靶材,钯靶材,铂靶材,铝硅合金靶材,铝硅铜合金靶材等。

  储存器电极薄膜:钼靶材,钨靶材,钛靶材等。

  粘附薄膜:钨靶材,钛靶材等。

  电容器绝缘膜薄膜:锆钛酸铅靶材等。

    2、磁记录靶材:

  垂直磁记录薄膜:钴铬合金靶材等。

  硬盘用薄膜:钴铬钽合金靶材,钴铬铂合金靶材,钴铬钽铂合金靶材等。

  薄膜磁头:钴钽铬合金靶材,钴铬锆合金靶材等。

  人工晶体薄膜:钴铂合金靶材,钴钯合金靶材等。


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